Etude du comportement électrochimique et optique de couches minces d’oxyde de nickel (NiO) : application en photovoltaïques

Abstract

Ce travail concerne la synthèse et la caractérisation des couches minces d’oxyde de nickel par électrodéposition direct et pulsé sur des électrodes en oxyde d'étain dopé au fluor (FTO). L’oxyde de nickel a été utilisée pour préparer des films composite (P3HT-NiO) sur des électrodes d’oxyde d'étain dopé à l’indium (ITO) par la méthode spin-coating. L’analyse des propriétés électrochimiques, morphologique de FTO/NiO et ITO/(P3HT+NiO) a été réalisée par différentes techniques DRX, AFM, MEB, MET, et spectroscopie UV-visible. Les couches minses FTO/NiO et les films composites ITO/(P3HT-NiO) ont été pris comme exemple en vue de leur application comme matériaux actifs dans les supercondensateurs.Les performances électrochimiques ont été évaluées par voltampérométrie cyclique, tests de charge-décharge galvanostatique, spectroscopie d'impédance électrochimique (SIE) et mesure de photocourant. La capacité spécifique obtenue pour le NiO préparé par électrodéposition direct est d'environ 250 Fg-1, cette valeur a été augmentée jusqu'à 1000 Fg-1 pour le film de NiO préparé par électrodéposition pulsé à 5 Ag-1. Le résultat obtenu montre qu’il y a une augmentation en photocourent plus de 5 fois pour un taux de 10% de NiO pour le film composite ITO/(P3HT-NiO) par rapport à ITO/P3HT seul