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Titre: Contribution a l'étude de la croissance des cavités d'hydrogène dans les semi conducteurs
Auteur(s): Okba, Fouad
Mots-clés: Silicium sur isolants
précipitation de l’hydrogène
croissances des platelets
Date de publication: 9-jui-2018
Résumé: Parmi les matériaux de base utilisés en microélectronique pour la fabrication de substrats innovants,le silicium sur isolant (SOI*Silicon On Insulator*),fabriqué par la technologie Smart Cut tm ,aréussi a tirer son épingle du jeu. Le SOI permet d'améliorer les performances des composants (transistors plus rapides, consommation d'énergie réduite) .
URI/URL: http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/handle/123456789/2306
Collection(s) :Thèses de doctorat

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