Effet des additifs organiques sur les propriétés de nanostructures de Co-Mo obtenues par déposition électrochimique

Abstract

Dans ce travail, nous nous sommes intéressons à l’effet des additifs sur les caractéristiques electrochimiques,morphologiques, structurales et magnétiques des films minces d'alliage Co-Mo électrodéposés sur un substrat de ruthénium à partir de bain sulfate. L’étude cinétique de dépôt par la technique voltammétrique a permis d’optimiser les conditions d’électrodéposition de ces couches minces. L’analyse des courants transitoires par l’utilisation du modèle théorique de Scharifker-Hills indique que le mécanisme de nucléation suit une nucléation de type instantanée suivie par une croissance tridimensionnelle (Volmer-Weber) limitée par la diffusion. Ce mode de nucléation a été influencé par la nature et la concentration de l’additif ajouté au bain de déposition. La caractérisation ex-situ des échantillons a été déterminée par microscopie à force atomique (AFM), microscopie électronique à balayage (MEB), diffraction de rayons X (DRX) et magnétométrie à gradient de champ magnétique alternatif (AGFM). La morphologie de la surface des films varie avec la nature d’additif. La diffraction X indique que les dépôts sont constitués d’une phase hexagonale compactes Co hcp. Les propriétés magnétiques de ces alliages ont été considérablement améliorées par l’ajout de saccharine et de citrate.