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  <title>DSpace Communauté:</title>
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  <updated>2026-04-06T19:17:46Z</updated>
  <dc:date>2026-04-06T19:17:46Z</dc:date>
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    <title>Localisation de microparticules dans un volume par holographie digitale hors axe et réduction d’ouverture</title>
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      <name>Zaidi, Sassia</name>
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    <updated>2026-02-16T13:50:14Z</updated>
    <published>2025-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Titre: Localisation de microparticules dans un volume par holographie digitale hors axe et réduction d’ouverture
Auteur(s): Zaidi, Sassia
Résumé: De nos jours l'holographie digitale s'impose au fil des mois comme une technique tridimensionnelle de visualisation et de mesure dans différents domaines. Particulièrement dans le domaine de la mécanique des fluides où elle est largement utilisée à travers ses deux configurations en ligne et hors axe. La première se caractérise par deux inconvénients majeurs, la présence des différents ordres sur le même axe et la limitation aux faibles concentrations de particules. Le schéma hors axe surmonte ces inconvénients par la séparation spatiale des ondes objet et de référence et des ordres reconstruits d'une part et s'adapte à de fortes concentrations. Seulement à la reconstruction, le fait que la profondeur de focalisation qui est relativement élevée, perturbe la localisation exacte des particules dans le volume d'étude. Ce travail de thèse consiste à chercher une solution à ce problème qui sera basée sur l'optique géométrique à savoir la réduction d'ouverture du système optique.</summary>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
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    <title>Cristaux photoniques et métamatériaux Etude et simulation de la bande interdite photonique</title>
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      <name>Ghadbane, Tahar</name>
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    <updated>2026-01-16T20:13:53Z</updated>
    <published>2025-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Titre: Cristaux photoniques et métamatériaux Etude et simulation de la bande interdite photonique
Auteur(s): Ghadbane, Tahar
Résumé: Cette thèse s’inscrit dans le domaine des matériaux artificiels périodiques et porte sur l’étude et la simulation de la bande interdite photonique dans les métamatériaux et les cristaux photoniques bidimensionnels (2D) à réseaux carrés et triangulaires, en configurations connectées et déconnectées. Trois matériaux diélectriques d’intérêt majeur pour les applications optiques et télécommunications ont été sélectionnés : le silicium (Si), l’arséniure de gallium (GaAs) et le niobate de lithium (LiNbO₃). Considérés comme des matériaux artificiels à structure périodique de l’indice de réfraction, ils permettent de contrôler la propagation des ondes électromagnétiques. La propriété fondamentale de ces matériaux réside dans l’apparition d’une bande interdite photonique (Photonic Band Gap – PBG), qui empêche la propagation de la lumière dans certaines plages fréquentielles, indépendamment de l’angle d’incidence ou de l’état de polarisation, ce qui en fait des éléments efficaces pour le contrôle photonique.&#xD;
L’étude se concentre sur la modélisation et l’analyse de cristaux photoniques bidimensionnels (2D) à réseaux géométriques carrés et triangulaires, dans les configurations connectées et déconnectées. Ces matériaux d’intérêt scientifique et technologique ont été sélectionnés en raison de leurs propriétés photoniques et optiques remarquables. Les simulations numériques ont été réalisées à l’aide du logiciel Rsoft, en s’appuyant sur la méthode des ondes planes (Plane Wave Expansion Method), afin de déterminer les paramètres géométriques optimaux des réseaux permettant de maximiser la largeur de la bande interdite photonique.&#xD;
Les résultats montrent que la structure triangulaire connectée, pour le silicium et l’arséniure de gallium, présente la plus large bande interdite photonique pour les deux polarisations transversales électrique (TE) et transversale magnétique (TM). Il a également été observé que l’apparition d’une bande interdite photonique commune, bloquant simultanément les deux polarisations, est limitée aux structures connectées. En revanche, les structures déconnectées se révèlent plus performantes pour l’obtention de larges bandes interdites photoniques spécifiques au mode TE. Par ailleurs, une convergence notable des performances photoniques entre le silicium et l’arséniure de gallium a été mise en évidence en ce qui concerne les propriétés des bandes interdites photoniques.&#xD;
Cette étude constitue une contribution essentielle à la détermination des dimensions optimales des réseaux photoniques permettant l’intégration de nouvelles fonctions optiques, telles que les cavités résonantes, les superprismes et les filtres add-drop. Ces dispositifs sont indispensables au développement de systèmes photoniques avancés destinés aux applications dans les télécommunications, les fibres optiques et les systèmes micro-ondes.</summary>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
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    <title>Etude et optimisation de l’effet des erreurs de fabrication sur la performance cinématique et dynamique des mécanismes plans</title>
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      <name>Belkadi, Noufel</name>
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    <updated>2025-12-16T11:17:58Z</updated>
    <published>2025-12-06T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Titre: Etude et optimisation de l’effet des erreurs de fabrication sur la performance cinématique et dynamique des mécanismes plans
Auteur(s): Belkadi, Noufel
Résumé: In real-life mechanisms, the design parameters differ from their theoterical values. This difference is due to the manufacturing errors of link dimensions and revolute joints of mechanism. In this thesis, the effect of link dimensions manufacturing errors and joints clearance on the kinematic and dynamicperformances of a planr mechanismis studied. Furthermore, an analytical method based on the partial derivatives is used to determine the mathematical equation representing the kinematical errors of the machanism. This error depends on the manufacturing errors of link dimension and revolute joints clearance of the mechanism. The Lagrangian equation is adopted to define the mathematical expression of manufacturing error on the dynamic performance of a planar mechanism. In this work, two objectives are considered regarding the acceleration error and dynamic performance. In the optimization process, particle swarm optimization algorithm (PSO) is used to determine the optimal design parameters, to achieve better kinematic and dynamic of planar mechanism in presence of manufacturing errors. Morever, this methodology was found to be helpful to achieve the better performance for an optimal mechanism.</summary>
    <dc:date>2025-12-06T00:00:00Z</dc:date>
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    <title>Etude du comportement optique et électrique des matériaux absorbeurs en couches minces : application aux photovoltaïques.</title>
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      <name>Dekhil, Djohra</name>
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    <updated>2025-11-03T12:57:03Z</updated>
    <published>2025-11-03T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Titre: Etude du comportement optique et électrique des matériaux absorbeurs en couches minces : application aux photovoltaïques.
Auteur(s): Dekhil, Djohra
Résumé: Ce travail de thèse a pour objectif l’élaboration et la caractérisation des films absorbeurs de sulfure d’étain (SnS) pour l’application photovoltaïques. Nous avons utilisé la technique de spray ultrasonique à cause de sa simplicité et son faible coût. Pour préparer la solution chimique, nous avons utilisé du chlorure d’étain et de la thiourée comme source d’étain et de soufre respectivement. Après leur élaboration , les films ont subi diverses caractérisations : structurale, optique et électrique ont été caractérisées par la diffraction des rayon X (DRX), les spectrométries (UV-Vis), la mesure photocourant et l’effet hall .Les résultats de diffraction des rayons X ont montré que tous les films cristallises sous la structure orthorhombique d’orientation préférentielle sur le plan (111) La caractérisation optique a montré que les films SnS ont une forte absorption dans le visible, la taille des grains est de l’ordre de 85 nm, la valeur du gap optique est de l’ordre de 1,3 eV; Les mesures du photocourant présentent des meilleurs propriétés de photocourant des films minces, et le dopage a amélioré le photocourant des films.</summary>
    <dc:date>2025-11-03T00:00:00Z</dc:date>
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