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Dépôt Institutionnel de l'Université Ferhat ABBAS - Sétif 1
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Date de publication
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Auteur(s)
12-avr-2018
Contribution à l’Etude de l’Influence des Couches Barrières sur le Phénomène de Diffusion à l’Interface Métal/Silicium pour des Couches Minces Formées par Evaporation par Effet Joule.
LAKHDARI, DELLOULA
12-avr-2018
Contribution à l’Etude de l’Influence des Couches Barrières sur le Phénomène de Diffusion à l’Interface Métal/Silicium pour des Couches Minces Formées par Evaporation par Effet Joule : Cas du système : Cu/Sb/Si (100), Cu/Sb/Si (110), Cu/Sb/Si (111).
Reffas, Mounir
19-jui-2018
Etude de l’effet barrière de diffusion à l’interface métal/silicium pour des couches minces préparées par voie électrochimique et par PVD sur des substrats Si(111), Si(110) et Si(100)
Djoudi, Adlen
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